熔石英微透镜是利用半导体芯片加工工艺(包括光刻、刻蚀、光学镀膜、晶圆切割等)，在熔石英基片表面制备出球面、非球面透镜及透镜阵列。
高精确度
高稳定性和可靠性
高度可定制化
| Parameter | Process Capability |
| Material | Fused Silica |
| Lens Diameter | 10um~1000um |
| Vector Height Sag. | <50um |
| Lens Pitch Accuracy | ±0.5um |
| Conic | -12-0 |
| ROC Uniformity(lens-lens in array) | ±1% |
| ROC Uniformity(array-to-array) | ±3% |
| Surface Profile Deviation | <35nm rms |
| AR Coating | <0.2% Per Side |
